檢索結果：共4筆資料 檢索策略： "化學工程系".dept (精準) and ckeyword.raw="化學氣相沈積"
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本研究以有機金屬化合物(hfac)CuI(COD)為先驅物的化學氣相沈積系統探討金屬銅薄膜的成長動力及其材料分析。我們將探討沈積溫度及銅先驅物分壓對反應速率的影響。經由數據分析，探討反應機構及動力模…
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本論文主要是研究先以Cu(hfac)2．H2O為先驅物並外加水來沈積氧化亞銅(Cu2O)薄膜之後，再利用乙醇將Cu2O薄膜還原成Cu薄膜的二階段化學氣相沈積成長方式之第二階段乙醇還原的過程。 首先我…
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本研究以有機金屬化學氣相沉積法於矽基板上成長出一維的單晶氮化銦鎵奈米線陣列。由愛克斯光繞射儀(XRD)分析可以得知所成長的氮化銦鎵奈米線為纖鋅礦結構。而由穿透式電子顯微鏡(TEM)的結果顯示奈米線呈…
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本研究乃以四甲基矽烷（TMS）、氨氣、氫氣為原料氣體的內熱式低壓化學氣相沈積系統，藉由碳化矽/氮化矽複合膜沉積於石墨基材上，作為石墨與碳化矽覆膜間的熱應力緩和傾斜層。利用在氫氣氣氛下控制原料TMS對…